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Tempus Applied Solutions Holdings, Inc. 股票：股价与高管交易 · 美国
过去 90 天内没有内部人买入。最近一笔由 Eliasch Johan 披露于 2017年5月16日。
Tempus Applied Solutions Holdings, Inc.：高管交易动态
Tempus Applied Solutions Holdings, Inc.是一家上市公司。其高管的申报经由SEC (Form 4)发布。过去十二个月内，Tempus Applied Solutions Holdings, Inc.没有任何高管发布申报。最近一份申报的日期是2017年7月18日。
回溯至覆盖起点2016年，高管共申报1笔买入和6笔卖出。
数据来源：高管申报（SEC (Form 4)）。过往交易不代表未来收益。
高管申报
23
持股线
暂无
买入金额
€243,114
1 笔 · 全部历史
卖出金额
€331,355
6 笔 · 全部历史
该评分只在所属市场内对买入进行排名。仅在经过回测的策略范围内的交易所提供建议仓位；其他市场的信号仍处于观察状态。并非投资建议。
财务数据
财年 2016财年截至 2016年12月 · cache
利润表
营业收入16.7M
毛利-274.4k-2% 利润率
净利润-2.8M-16.6% 利润率
最新申报日期：2017年7月18日
申报23 总计
- 248,002 股@ US$0.314819.0% 占其流量股票SEC:0000921895-17-001930:0
- 500,000 股@ US$0.211425.8% 占其流量股票SEC:0000921895-17-001921:0
- 100,000 股@ US$0.30787.5% 占其流量股票SEC:0000921895-17-001921:1
- 194,349 股@ US$0.393418.6% 占其流量股票SEC:0000921895-17-001901:0
- 133,202 股@ US$0.369412.0% 占其流量股票SEC:0000921895-17-001901:1
- 122,363 股@ US$0.31599.4% 占其流量股票SEC:0000921895-17-001901:2
- 328,125 股@ US$0.086.4% 占其流量股票SEC:0000921895-17-001868:0
- 65,625 股@ US$0.081.3% 占其流量股票SEC:0000921895-17-001868:1
- 2,032,944 股@ US$0.13100.0% 占其流量股票SEC:0000947871-17-000381:0标准退出：2017年8月8日 (T+90)
- 1,000 股@ US$1.2248.8% 占其流量股票SEC:0001213900-16-014821:0
- 1,000 股@ US$1.2851.2% 占其流量股票SEC:0001213900-16-014821:1
- 942,138 股股票SEC:0001140361-16-070911:0
- 188,428 股股票SEC:0001140361-16-070911:1
- 942,138 股股票SEC:0001213900-16-014469:0
- 188,428 股股票SEC:0001213900-16-014469:1
- 152,778 股股票SEC:0001213900-16-014471:0
- 50,918 股股票SEC:0001213900-16-014473:0
- 10,184 股股票SEC:0001213900-16-014473:1
- 1,000 股@ US$1.1549.4% 占其流量股票SEC:0001213900-16-014441:0
- 1,000 股@ US$1.1750.6% 占其流量股票SEC:0001213900-16-014441:1
- 242,131 股@ US$2.07100.0% 占其流量股票SEC:0001213900-16-011693:0
- 534,722 股股票SEC:0000921895-16-003495:0
- 106,944 股股票SEC:0000921895-16-003495:1
23 条申报中的 23 条
About Tempus Applied Solutions Holdings, Inc.
Tempus Applied Solutions Holdings, Inc. is a company specializing in technology and service solutions for the defense and aerospace sectors. It is listed on the XNAS market.
